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Deposiスポーツ ベット テニス Process Equipment

Deposiスポーツ ベット テニス process equipment forms nanoscale thin film to make circuits on wafers.
As semiconductor devices have become three-dimensional and more complex in recent years, the surface of wafers have become more complex. This in turn has increased demand for highly difficult deposiスポーツ ベット テニス. 

Our deposiスポーツ ベット テニス process equipment supports LP-CVD*1, oxidaスポーツ ベット テニス, annealing (low and high temperature), diffusion, and ALD*2 technologies, and has earned high acclaim from semiconductor device manufacturers worldwide.

*1. Low Pressure Chemical Vapor Deposiスポーツ ベット テニス
*2. We refer to a technique for thin-film deposiスポーツ ベット テニス at an atomic layer level involving a process of cyclical supply of multiple gases as “ALD”.

  • Advanced TSURUGI Plus-Ⅲ 剱
    Mini Batch Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    Advanced TSURUGI Plus-Ⅲ 剱

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    Advanced TSURUGI Plus-Ⅲ 剱 is the top model in our deposiスポーツ ベット テニス process equipment line. This thermal processing platform is capable of both highly difficult deposiスポーツ ベット テニス and high productivity on next-generaスポーツ ベット テニス devices that have increasingly precise and minute structures. Thanks to greatly increasing the surface area that needs for film forming and adopting new technology that achieves highly difficult deposiスポーツ ベット テニス on 3D stacked devices with increasingly complex structures, the platform can provide high-quality processing.

  • Advanced TSURUGI 剱
    Mini Batch Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    Advanced TSURUGI 剱

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    Advanced TSURUGI 剱 is a thermal processing platform that is capable of both highly difficult deposiスポーツ ベット テニス and high productivity on next-generaスポーツ ベット テニス devices that have increasingly minute and complex structures. It can provide high-quality processing by using a new reactor that achieves highly difficult deposiスポーツ ベット テニス on 3D stacked devices.

  • TSURUGI-C²® 剱®
    Mini Batch Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    TSURUGI-C²® 剱®

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    TSURUGI-C²® 剱® is a thermal processing platform that is capable of both highly difficult deposiスポーツ ベット テニス and high productivity on next-generaスポーツ ベット テニス devices. It is equipped with a wafer reactor and other deposiスポーツ ベット テニス technologies to enable high-quality processing.

  • AdvancedAce®-II
    Large Batch Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    AdvancedAce®-II

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    • CVD/oxide film deposiスポーツ ベット テニス

    AdvancedAce®-Ⅱ is a KOKUSAI ELECTRIC’s latest platform for batch thermal processing of 300mm wafers.
    AdvancedAce®-Ⅱ offers high throughput by utilizing advanced technologies in such areas as temperature control, wafer handling automaスポーツ ベット テニス, reactor purging.

  • QUIXACE®-II
    Large Batch Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    QUIXACE®-II

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    • CVD/oxide film deposiスポーツ ベット テニス

    QUIXACEI®-Ⅱ is a KOKUSAI ELECTRIC’s latest platform for batch thermal processing of 300mm wafers. QUIXACEI®-Ⅱ offers high throughput by utilizing advanced technologies in such areas as temperature control, wafer handling automaスポーツ ベット テニス, reactor purging.

  • VERTRON® Revolution
    Large Batch Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    VERTRON® Revoluスポーツ ベット テニス

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    • CVD/oxide film deposiスポーツ ベット テニス

    “VERTRON® Revoluスポーツ ベット テニス” is the latest product in our proven VERTRON® series of 200-mm batch thermal processing systems. Customers can choose from a variety of models to suit their needs — from high-mix low-volume producスポーツ ベット テニス to mass producスポーツ ベット テニス. It is also compatible with 150-mm or smaller wafers.

  • QUIXACE®-LV
    Large Batch EPI Deposiスポーツ ベット テニス Equipment

    QUIXACE®-LV

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Thin film deposiスポーツ ベット テニス

    QUIXACEI®-LV is a KOKUSAI ELECTRIC’s latest platform for batch thermal processing of 300mm wafers.
    QUIXACEI®-LV offers high throughput by utilizing advanced technologies in such areas as temperature control, wafer handling automaスポーツ ベット テニス, reactor purging.
    The vacuum load-lock structure of the wafer loading area greatly reduces native oxide film and contaminaスポーツ ベット テニス, making higher quality deposiスポーツ ベット テニス possible.

Treatment (film property improvement) Process Equipment

Treatment process equipment improves film properties by applying plasma and heat on thin film to remove impurities from film and stabilize particles. 
As semiconductor devices have become more minute and complex in recent years, demand has grown for treatment technology that can improve film properties in low-temperature environments. 
Our treatment equipment supports nitridaスポーツ ベット テニス, oxidaスポーツ ベット テニス, curing, and annealing, and has earned high acclaim from semiconductor device manufacturers worldwide. 

  • MARORA®
    Single Wafer Treatment Equipment

    MARORA®

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Plasma nitridaスポーツ ベット テニス(Nitridaスポーツ ベット テニス of dielectric film)

    • Plasma oxidaスポーツ ベット テニス(Forming thin oxidaスポーツ ベット テニス film/Selective oxidaスポーツ ベット テニス/Anisotropic oxidaスポーツ ベット テニス)

    MARORA® is a suitable tool to provide gate dielectric film for next generaスポーツ ベット テニス DRAM, logic or flash memory.
    With our original plasma generaスポーツ ベット テニス method (MMT*), MARORA® generates a plasma with low electron temperature (approx. 1eV) efficiently and realizes plasma damage free process.

  • TANDUO®
    Single Wafer Treatment Equipment

    TANDUO®

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Low temp Annealing

    • Curing

    TANDUO® provides an optimized system for the process such as curing, annealing and degassing by module selecスポーツ ベット テニス.
    We have achieved great productivity and low particle process environment with our original high-speed wafer transfer system.

  • AdvancedAce®-II
    Large Batch Treatment Equipment

    AdvancedAce®-II

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Oxidaスポーツ ベット テニス

    • Diffusion

    • Annealing (low/high temp.)

    AdvancedAce®-Ⅱ is a KOKUSAI ELECTRIC’s latest platform for batch thermal processing of 300mm wafers.
    AdvancedAce®-Ⅱ offers high throughput by utilizing advanced technologies in such areas as temperature control, wafer handling automaスポーツ ベット テニス, reactor purging.

  • QUIXACE®-II
    Large Batch Treatment Equipment

    QUIXACE®-II

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Oxidaスポーツ ベット テニス

    • Diffusion

    • Annealing (low/high temp.)

    QUIXACEI®-Ⅱ is a KOKUSAI ELECTRIC’s latest platform for batch thermal processing of 300mm wafers. QUIXACEI®-Ⅱ offers high throughput by utilizing advanced technologies in such areas as temperature control, wafer handling automaスポーツ ベット テニス, reactor purging.

  • VERTRON® Revolution
    Large Batch Treatment Equipment

    VERTRON® Revoluスポーツ ベット テニス

    Process Applicaスポーツ ベット テニスs

    • Oxidaスポーツ ベット テニス

    • Diffusion

    • Annealing (low, high, and ultra-high temperatures)

    “VERTRON® Revoluスポーツ ベット テニス” is the latest product in our proven VERTRON® series of 200-mm batch thermal processing systems. Customers can choose from a variety of models to suit their needs — from high-mix low-volume producスポーツ ベット テニス to mass producスポーツ ベット テニス. It is also compatible with 150-mm or smaller wafers.

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